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設(shè)備制造

輝納涂層HINa-Carbon系列PVD涂層設(shè)備是一款提供高品質(zhì)、工業(yè)級的類金剛石(DLC)薄膜涂層設(shè)備，集增強型磁控濺射與離子束等多種技術(shù)為一體，采用輝納涂層自主研發(fā)的獨特工藝和設(shè)計，HiNa-Carbon涂層設(shè)備所提供的涂層產(chǎn)品可應(yīng)用于自動化零部件、汽車零部件、紡織零部件及刀具等領(lǐng)域。輝納涂層提供的HiNa-Carbon涂層設(shè)備本身具有良好的工藝穩(wěn)定性，也可根據(jù)客戶需求量身定制相關(guān)工藝，以滿足客戶的市場需求。


HiNa-Carbon 標準設(shè)備的基本參數(shù)


涂層設(shè)備總體尺寸（毫米）

2400(寬）x2400(深)x2000(高)

設(shè)備功率

50(千瓦),380(伏)三相

壓縮空氣和冷卻水

0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分鐘

靶源冷卻25°C，腔體冷卻35°C

真空抽氣系統(tǒng)

機械選片泵1臺

分子泵1臺

200立方米/小時

2500升/秒

無負載系統(tǒng)極限真空 1.0x10-4帕

真空測量系統(tǒng)

低真空/電阻規(guī)/2路

高真空/離子規(guī)/1路

鍍膜離子源和電源（電源可根據(jù)客戶需求自選）

磁控濺射源1套

離子束源2套     磁控濺射電源1套

離子束電源2套

偏壓電源1套

靶源尺寸664x85毫米

陽極層離子束

直流電源

高壓直流脈沖電源

靶功率<10千瓦

有效工作電壓1500伏

電源功率10千瓦，占空比0~90%，頻率40千赫茲

工藝氣體

獨立2路，質(zhì)量流量控制器MFC（可根據(jù)客戶需要增加獨立氣路）

工件轉(zhuǎn)架

2套、帶12個直徑120毫米可獨立轉(zhuǎn)動的行星轉(zhuǎn)塔，可連同被鍍工件整體裝卸，轉(zhuǎn)速~10轉(zhuǎn)分鐘，轉(zhuǎn)架尺寸直徑730毫米，承載重量350公斤

鍍膜機控制系統(tǒng)

PLC控制系統(tǒng)+工業(yè)PC/PLC

系統(tǒng)具備全自動，手動和維護3種操作模式

所以所有運行參數(shù)記錄于電腦之中供分析查閱

開放式軟件界面，用戶可自行開發(fā)工藝

涂層工藝

隨機附送應(yīng)用于汽車零部件和工具上的類金剛石(DLC)涂層工藝和輔助工藝